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10 / 08 / 2021

台湾TSMCの、5nmプロセス製造ラインで発生していたガス汚染の原因が判明し復旧作業が行われました。同ラインでのA15チップ製造への影響はないと、MyDriversが伝えています。

その後の調査により、不活性ガスであるアルゴン(Ar)が酸素に混入していたことが原因だと判明しました。

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  • に発表されました: ケース
  • 作成日: 2021-08-10
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